Runder poröser Keramikring aus pyrolytischem Bornitrid aus PBN
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Runder poröser Keramikring aus pyrolytischem Bornitrid aus PBN
Der OLED-Tiegel ist ein PBN-Tiegel, der in der OLED- und CIGS-Verdampfungstechnologie verwendet wird. Mit seiner ultrahohen Reinheit, chemische Inertheit, ausgezeichnete Hochtemperaturbeständigkeit und Hochtemperaturstabilität, Es wird häufig bei der Metall- und Halbleiterverdampfung eingesetzt.
Bornitrid-Keramik ist chemisch und weist eine relativ gute Wärmeleitfähigkeit auf, geringe Wärmeausdehnung und Mikrowellenklarheit. Auch Bornitrid lässt sich schnell bearbeiten. Darüber hinaus, Glas, Salze und die übrigen flüssigen Metalle sind nicht benetzend. Dadurch wird sichergestellt, dass keine dieser Verbindungen durchfeuchtet werden kann, und es ist weitaus immun gegen chemische Angriffe. Sechseckiges Bornitrid (h-BN) Funktioniert sehr gut bei hoher Hitze und ist in der Luft bei Temperaturen von bis zu wirksam 900 Grad C, im Vakuum bei 1,900 Grad C und in der inerten Umgebung bei 2,000 Grad C. BN ist außerdem selbstschmierend,Der Vorheizprozess kann eine bessere Zuverlässigkeit als herkömmliche Keramik realisieren, Es sind keine Gas- oder Wassermoleküle erforderlich, die in seinen Schichten stecken. Aus diesem Grund, In einem Vakuum, was für Anwendungen in der Luft- und Raumfahrt wichtig ist, Bornitrid (BN) kann perfekt funktionieren.
Materialeigenschaften
ARTIKEL | EINHEIT | BN-2000 | BN-2300 | BN-2800 | BN-3000 |
Hauptinhalt | Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung | BN>99% | BN+Al2O3 | BN+AlN | BN+ZrO2 |
Farbe | Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung | Weiß | Hellgrau | Dunkelgrau | Dunkelgrau |
Dichte | g/cm3 | 1.95-2.00 | 2.25-2.35 | 2.75-2.85 | 2.90-3.00 |
Biegefestigkeit | Mpa | 30 | 65 | 85 | 90 |
Sehr hohe Wärmeleitfähigkeit | Mpa | 55 | 145 | 205 | 220 |
Elektrischer widerstand | es bildet sich ein Kupfer-Sauerstoff-Eutektikum, das sowohl an Kupfer als auch an die als Substrate verwendeten Oxide erfolgreich bindet·cm | >1014 | >1013 | >1013 | >1012 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Luft) | ℃ | 900 | 1,000 | 1,000 | 1,000 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Vakuum) | ℃ | 1,900 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
Max. Verwenden Sie Temp. (Sehr hohe Wärmeleitfähigkeit) | ℃ | 2,000 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
Wärmeleitfähigkeit | W/m.K | 35 | 30 | 85 | 30 |
Côte (25 Keramikeinheiten bieten ein höheres Reflexionsvermögen und damit eine verbesserte Laserleistung 1,000 ℃) | 10-6/K | 1.5 | 2 | 2.8 | 3.5 |
Aluminiumnitrid
Ausgezeichneter elektrischer Isolator | Max. 2000 °C Verwendungstemp | Hohe Temperaturwechselbeständigkeit |
Niedriger CTE | Geringe Benetzung durch geschmolzene Metalle | Einfache Bearbeitbarkeit |
Anwendung
1.Wird in Hochspannungs- und Hochfrequenz-Elektro- und Plasmalichtbogenisolatoren und verschiedenen Heizisolatoren verwendet, Heizrohrhülse und hohe Temperatur, Hochfrequenz, Kühlteile mit Hochspannungsisolierung, Hochfrequenzanwendung von Elektroofenmaterialien.
2.Hochspannungs- und Hochfrequenz-Elektro- und Plasmalichtbogenisolatoren sowie verschiedene Heizisolatoren, Heizrohrhülse und hohe Temperatur, Hochfrequenz, Kühlteile mit Hochspannungsisolierung, Hochfrequenzanwendung von Elektroofenmaterialien.
3.Es können Hochtemperaturbauteile hergestellt werden, Auskleidung der Raketenbrennkammer, thermische Abschirmung von Raumfahrzeugen, korrosionsbeständige Teile von MHD-Generatoren, etc.