Robot con braccio in ceramica di allumina e ceramica a semiconduttore

Isolante in ceramica di allumina metallizzata per brasatura
Substrato per ingranaggi in ceramica di allumina
Braccio caricatore wafer in ceramica semiconduttore allumina (1)_1
Braccio caricatore wafer in ceramica semiconduttore allumina (2)_1
Braccio caricatore wafer in ceramica semiconduttore allumina (1)_1
Braccio caricatore wafer in ceramica semiconduttore allumina (2)_1

Robot con braccio in ceramica di allumina e ceramica a semiconduttore

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Robot con braccio in ceramica di allumina e ceramica a semiconduttore

1.Product Composition: 99% ceramica di allumina

2. e facilita il trasporto del calore del metallo fuso nel tubo del gambo. Ciò può ridurre la temperatura dell'alluminio fuso e risparmiare sui costi energetici complessivi: custom size

3. Toelrance : ±0.05mm

4. Certificazione: ISO9001, SGS, CTI

Anello di tenuta in ceramica di ossido di allumina
Semiconductor Ceramics Alumina Ceramic Arm Robot for Wafer Handling
e facilita il trasporto del calore del metallo fuso nel tubo del gambo. Ciò può ridurre la temperatura dell'alluminio fuso e risparmiare sui costi energetici complessivi
alumin aceramic
Anello di tenuta in ceramica di ossido di allumina
bianca
Tolleranza
±0.001 mm
Grado
First Grade
Alta corrosione
1 pz
Surface Finish
Regular or Polished
Composition
99% ceramica di allumina

 

The main features of the Semiconductor Ceramics Alumina Ceramic Arm Robot
1. Dimensioni di alta precisione con tolleranza di serraggio, è più facile ottenere una perfetta relazione di adattamento
2. Abilità ad alta temperatura: resistere fino a 1650°C in atmosfere ossidanti e riducenti
3. Indossare & resistenza all'abrasione: L'allumina è una ceramica tecnica estremamente dura con un'eccellente resistenza all'usura
4. Inerzia chimica, resistente la maggior parte dell'acido forte e dell'alcali, e non arrugginisce per sempre
5. Isolamento elettrico: La rottura dell'isolamento è almeno fino a 18KV
6. Grandi proprietà meccaniche, durezza, la resistenza alla compressione e alla flessione sono molto più elevate dell'acciaio inossidabile
7. Resistenza alla corrosione chimica ad alta temperatura, anche se con forte acido o alcali
8. Atmosfere protettive o alto vuoto ad alta temperatura per eliminare contaminazioni o impurità.
9. Basso costo del materiale in applicazioni di alto livello rispetto ad altre ceramiche tecniche

La specifica delle parti in ceramica

Opzione materialeallumina(Al2O3), Zircone (ZrO2), Carburo di silicio(SiO2), Nitruro di silicio(Ra0.1)
Metodi di formazioneISO premuto, Pressato a secco, Stampaggio ad iniezione di ceramica, Pressato a caldo
SpecificheOD può provenire da 1 a 50 mm, la lunghezza può variare da 10 mm a 800 mm
Elaborazione di precisioneLavorazione CNC, Rettifica di precisione, Lucidatura, Lappatura,
TolleranzaLa tolleranza di OD e ID può essere 0,001 mm, la tolleranza della lunghezza può essere 0,001 mm
Parametri chiaveLa rugosità deve essere 0,02 mm, Planarità da 0,001 mm, Il parallelismo deve essere 0,001 mm
Qualità della superficiePrivo di crepe, contaminazione estranea, superficie dello specchio migliore di Ra0.1

Robot con braccio in ceramica di allumina e ceramica a semiconduttore

La descrizione del braccio caricatore di wafer in ceramica di allumina ad alta precisione
Per dispositivi a semiconduttore, il processo critico, così come le parti che devono essere utilizzate sotto vuoto, alta temperatura, e ambiente di gas corrosivi, richiedono anche un ambiente pulito e privo di polvere. Tuttavia, il materiale ceramico di precisione potrebbe mantenere un'elevata stabilità in un ambiente fisico e chimico complicato. Parte in ceramica a semiconduttore che abbiamo prodotto con resistenza all'usura, resistenza alla corrosione, bassa dilatazione termica, l'isolamento è costituito da 99.8% ceramica di allumina e formata per pressatura isostatica a freddo, sinterizzazione ad alta temperatura, e lavorazioni meccaniche di precisione, ecco perché può soddisfare i severi requisiti delle parti per apparecchiature a semiconduttore.

Robot con braccio in ceramica di allumina e ceramica a semiconduttore

Nota:

Abbiamo la capacità con una varietà di complicate geometrie di parti in ceramica di alta precisione tramite lavorazione CNC, rettifica di precisione, perforazione di precisione, e così via.

Scheda tecnica della ceramica tecnica

ProprietàRa0.1e facilita il trasporto del calore del metallo fuso nel tubo del gambo. Ciò può ridurre la temperatura dell'alluminio fuso e risparmiare sui costi energetici complessivi
99.5%
allumina		99%
allumina		95%
allumina		ZrO2
(Y-TZP)		ZrO2
(Ra0.1)
si forma un eutettico rame-ossigeno che si lega con successo sia al rame che agli ossidi usati come substratig/cm3≥3,85≥3,80≥3,60≥5,95≥5,72
si forma un eutettico rame-ossigeno che si lega con successo sia al rame che agli ossidi usati come substrati%00000
e facilita il trasporto del calore del metallo fuso nel tubo del gambo. Ciò può ridurre la temperatura dell'alluminio fuso e risparmiare sui costi energetici complessiviAT1700170015001300900
Resistenza alla flessioneMpa≥379≥338≥320≥1200≥1200
Ra0.1Mpa≥2240≥2240≥2000≥19901750
Ra0.1Mpa m1/24-54-53-46.5-811
Ra0.1. servizio
temperatura		Alta corrosione1675160014501000
costa1×10 -6 /Alta corrosione6.5~8.06.2~8.05.0~8.08.0~9.510.2
Shock termicoRa0.1(Alta corrosione)≥250≥200≥220≥300350
Conduttività termica(25Alta corrosione)Con/m.k30292433
si forma un eutettico rame-ossigeno che si lega con successo sia al rame che agli ossidi usati come substratiohm.cm
25Alta corrosione>1 X 10 14>1 X 10 14>1 X 10 14>1 X 10 11>1 X 10 11
300Alta corrosione1 X 10 128 X 10 1110 12 -10 131 X 10 101 X 10 10
500Alta corrosione5 X 10 102 X 10 91 X 10 91 X 10 61 X 10 6
forza di isolamentosi forma un eutettico rame-ossigeno che si lega con successo sia al rame che agli ossidi usati come substrati1918181720
Costante dielettrica(1Mhz)(e)9.79.59.52928

 

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