炉用窒化ホウ素セラミックスリーブ

炉用窒化ホウ素セラミックスリーブ

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炉用窒化ホウ素セラミックスリーブ

窒化ホウ素セラミックは化学的にも熱伝導率が比較的良好です。, 低熱膨張とマイクロ波透明性. 窒化ホウ素 素早く加工することもできます. さらに, ガラス, 塩と残りの液体金属は濡れません. これにより、これらの化合物が湿ることがなくなります。, 化学的攻撃に対してはるかに耐性があります。六方晶系窒化ホウ素 (h-BN) 高温条件下でも非常に優れた性能を発揮し、最高温度の空気中でも効果を発揮します。 900 ℃, 真空中で 1,900 ℃、不活性環境下 2,000 ℃. BNは自己潤滑性も備えています,したがって、より長い寿命を保証します, 層に詰まったガスや水の分子を使用する必要はありません。. このため, 真空中で, これは航空宇宙用途にとって重要です, 窒化ホウ素 (BN) 完璧に仕事ができる.

固体酸化物形燃料電池

1. 高い熱伝導率
2. 優れた耐熱衝撃性
3. 低熱膨張
4. 優れた耐熱性
5. 優れた化学的不活性性
6. 高い電気抵抗
7. 高い体積抵抗率
8. 低い誘電率と損失正接
9. 優れた被削性

セラミック_ヒートシンク_基板_

1. 電子部品 – ヒートシンク, 基板, コイルフォーム, プロトタイプ
2. 真空溶解るつぼ
3. CVDるつぼ
4. マイクロ回路のパッケージング
5. スパッタリングターゲット
6. 高精度シール, ろう付け, およびメタライズ治具
7. マイクロ波管
8. 水平キャスターブレーキリング
9. 低摩擦シール
10. プラズマアーク絶縁体
11. 高温炉の治具とサポート

材料特性
窒化ホウ素の特性:
熱伝導率
(40-50)W/分·k
熱膨張率
(6.5-7.5)*10-6 °C
抵抗率
>1012 Ω·m
突刺電圧
(2.5-4.0)*106 /kv·m
誘電率
3.8-4.3
曲げ強度
>35メガパスカル
圧縮強度
>200メガパスカル
密度
1.9—2.2g/cm3
作業温度
酸化性雰囲気
850°C
真空と慣性
2000°C

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