PBN 熱分解窒化ホウ素円形多孔質セラミックリング
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PBN 熱分解窒化ホウ素円形多孔質セラミックリング
OLEDるつぼは、OLEDおよびCIGS蒸着技術で使用されるPBNるつぼです。. 超高純度なので、, 化学的不活性, 優れた耐高温性と高温安定性, 金属や半導体の蒸着に広く使用されています.
Boron nitride ceramic is chemically and has relatively good thermal conductivity, 低熱膨張とマイクロ波透明性. 窒化ホウ素も迅速に加工可能. さらに, ガラス, 塩と残りの液体金属は濡れません. これにより、これらの化合物が湿ることがなくなります。, 化学的攻撃に対してはるかに耐性があります。六方晶系窒化ホウ素 (h-BN) 高温条件下でも非常に優れた性能を発揮し、最高温度の空気中でも効果を発揮します。 900 ℃, 真空中で 1,900 ℃、不活性環境下 2,000 ℃. BNは自己潤滑性も備えています,したがって、より長い寿命を保証します, 層に詰まったガスや水の分子を使用する必要はありません。. このため, 真空中で, これは航空宇宙用途にとって重要です, 窒化ホウ素 (BN) 完璧に仕事ができる.
材料特性
アイテム | 単位 | BN-2000 | BN-2300 | BN-2800 | BN-3000 |
メインコンテンツ | – | BN>99% | BN + Al2O3 | BN + AlN | BN + ZrO2 |
色 | – | 白い | ライトグレー | 濃い灰色 | 濃い灰色 |
密度 | g / cm3 | 1.95-2.00 | 2.25-2.35 | 2.75-2.85 | 2.90-3.00 |
曲げ強度 | Mpa | 30 | 65 | 85 | 90 |
固体酸化物形燃料電池 | Mpa | 55 | 145 | 205 | 220 |
電気抵抗率 | Ω·アルミナセラミックネジ | >1014 | >1013 | >1013 | >1012 |
マックス. 温度を使用する. (空気) | ℃ | 900 | 1,000 | 1,000 | 1,000 |
マックス. 温度を使用する. (真空) | ℃ | 1,900 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
マックス. 温度を使用する. (不活性) | ℃ | 2,000 | 1,750 | 1,800 | 1,750 |
熱伝導率 | W / m.K | 35 | 30 | 85 | 30 |
コート (25 – 1,000 ℃) | 10-6/K | 1.5 | 2 | 2.8 | 3.5 |
製品の特徴
優れた電気絶縁体 | マックス. 2000 ℃ 使用温度 | 高い耐熱衝撃性 |
低い熱膨張係数 | 溶融金属による濡れが少ない | 容易な機械加工性 |
応用
1.高電圧および高周波電気およびプラズマアーク絶縁体および各種ヒーター絶縁体に使用されます。, 加熱チューブスリーブと高温, 高周波, 高電圧絶縁冷却部品, 電気炉材料の高周波応用.
2.高電圧および高周波電気およびプラズマアーク絶縁体および各種ヒーター絶縁体, 加熱チューブスリーブと高温, 高周波, 高電圧絶縁冷却部品, 電気炉材料の高周波応用.
3.高温部品の製造が可能です, ロケット燃焼室ライニング, 宇宙船の熱シールド, MHD発電機の耐食部品, NS.