热压氮化铝加热器盖板
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热压氮化铝加热器盖板
热压氮化铝加热器盖板最薄厚度0.75mm.
1.该材料硬度高、脆性大,加工难度大, 因此在搬运或加工时很容易出现缺口或划痕,导致废品率非常高.
2.热压 氮化铝陶瓷 采用真空热压烧结而成, 烧结过程比常压烧结更困难. 氮化铝纯度可达 99.5%(不含任何烧结添加剂), 热压后密度达到3.3g/cm3, 它还具有优异的导热性和高电绝缘性. 热导率可以由 90 W/(米·ķ) 至 210 W/(米·ķ).
3.最薄厚度仅0.75mm,加工难度也较大.
热压氮化铝加热器盖板的应用:
-半导体用盖板加热器
– 盖板和 MRI 设备(磁共振成像)
-高功率探测器, 等离子发生器, 军用无线电
-用于半导体和集成电路的静电吸盘和加热板
– 红外、微波窗口材料
材质特性
1.均匀的微观结构
2.高导热性* (70-180 Wm-1K-1), 通过加工条件和添加剂定制
3.高电阻率
4.热膨胀系数接近硅
5.耐腐蚀和侵蚀
6.优异的抗热震性
7.在 H2 和 CO2 气氛中化学稳定性高达 980°C, 在高达 1380°C 的空气中 (表面氧化
发生在 780°C 左右; 表层保护块体高达 1380°C).
典型规格:
纯度: | >99% |
密度: | >3.3 克/立方厘米 |
抗压强度: | >3,350兆帕 |
抗弯强度: | 380兆帕 |
灰色和灰黑色: | >90W/(米·钾) |
热膨胀系数: | 5.0 x 10-6/K |
最大限度. 温度: | 1,800°C |
体积电阻率: | 7×1012Ω·一种铜-氧共晶形式,可成功地与铜和用作基材的氧化物结合 |
介电强度: | 15 千伏/毫米 |
氮化铝 (氮化铝) 如果需要高导热性和电绝缘性能,是一种极好的材料; 使其成为热管理和电气应用的理想材料. 此外, AlN 是氧化铍的常见替代品 (铍) 在半导体行业中,因为加工时不会对健康造成危害. 氮化铝的热膨胀系数和电绝缘性能与硅片材料非常匹配, 使其成为高温和散热经常成为问题的电子应用的有用材料.
氮化铝是少数提供电绝缘和高导热性的材料之一. 这使得 AlN 在散热器和散热器应用中的高功率电子应用中非常有用.