半导体工艺 – 蚀刻
半导体工艺 – 蚀刻 1, 蚀刻工艺分类: 半导体制造中的蚀刻工艺主要有两种类型: 干法蚀刻和湿法蚀刻. 干法蚀刻分为三种: 等离子蚀刻, 离子束溅射蚀刻和反应离子蚀刻 (反应离子注入). 当然, 蚀刻还可分为图文蚀刻和图文蚀刻. 使用光刻胶或其他材料作为掩模进行图案化蚀刻, 仅蚀刻掉裸露的部分, 虽然没有进行图案蚀刻 [...]
13 11月
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半导体工艺 – 蚀刻 1, 蚀刻工艺分类: 半导体制造中的蚀刻工艺主要有两种类型: 干法蚀刻和湿法蚀刻. 干法蚀刻分为三种: 等离子蚀刻, 离子束溅射蚀刻和反应离子蚀刻 (反应离子注入). 当然, 蚀刻还可分为图文蚀刻和图文蚀刻. 使用光刻胶或其他材料作为掩模进行图案化蚀刻, 仅蚀刻掉裸露的部分, 虽然没有进行图案蚀刻 [...]